表面改性/清潔原理-sakigakes等離子體裝置NMR-Gts

我們將介紹通過應用等離子體的高反應性而獲得的“表面改性”和“清潔效果”的原理。

等離子體表面改性的原理



當用等離子體輻照基板（不銹鋼，玻璃，PP，鋁，硅等）時，等離子體的離子化分子（OH基等）在表面上被修飾，從而大大提高了水的潤濕性。主要用途改善涂料的潤濕性


大氣壓等離子體



附著在基板上的有機物質(zhì)與等離子體中的活性分子發(fā)生反應，并在受到等離子體照射時蒸發(fā)。這使得無需清潔劑就可以去除有機物質(zhì)。主要用途去除附著在有機EL腔室側(cè)壁上的有機物清潔電極表面改善粘合性能等

日本sakigakes小型真空等離子體裝置NMR-Gts

用于板狀，纖維狀和薄膜狀物體的表面改性和清潔。

■業(yè)界醉低的價格（根據(jù)我們的研究）
■直徑為100毫米（高度為5毫米或更?。┑奈矬w可以進行等離子處理
■像家用電器一樣易用（易于處理）
■易于維護

用于板狀，纖維狀和薄膜狀物體的表面修飾/清潔用于
粘附，印刷和涂層的預處理用于
細胞培養(yǎng)容器的預處理（提高植入和增殖能力）
醫(yī)用材料滅菌至

設備名稱小型真空等離子設備
型號NMR-Gts
外部尺寸230mm（W）x 221mm（D）x 120mm（H）
重量4kg
放電部件尺寸直徑100mm（圓形）電極之間的距離6mm（H）
電源輸出電源
無需壓力調(diào)節(jié)
100V （50Hz / 60Hz）

日本sakigakes小型真空等離子體裝置NMR-Gts

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